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奈米微粒暴露改善技術探討ILOSH111-H601

奈米微粒暴露改善技術探討ILOSH111-H601

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9786267320280
陳春萬,蔡春進,林冠宇
2023年6月01日
200.00  元
HK$ 170  






ISBN:9786267320280
  • 叢書系列:醫療社福
  • 規格:平裝 / 219頁 / 20.9 x 29.4 x 1.4 cm / 普通級 / 單色印刷 / 初版
  • 出版地:台灣
    醫療社福


  • 專業/教科書/政府出版品 > 政府出版品 > 社福醫療 > 勞工安全











      奈米微粒逸散研究發現,當模擬危害源位於氣櫃內部中央,可變風量(VAV)氣櫃面速度下降及拉門開度提高時,奈米微粒逸散情形增加,雖然濃度不高,但部分時間可測得較明顯逸散情形。氣簾式(AC)氣櫃拉門開度由全開至低開時,發現在低開時有最多的微粒逸散。若模擬危害源置於氣罩內部左側,VAV氣櫃的面速度較高時及AC氣櫃的下吸速度較高時逸散情形較為明顯。使用VOC當作危害物時,測試結果也相同。電腦模擬所觀測之流場分布及微粒軌跡發現,氣流進入到氣櫃內部時,氣櫃皆會在拉門後方內部形成迴流區。當拉門開度較高時,危害物釋放後會隨氣流排出,並未觀測到逸散情形,但拉門開度降低時,危害物受到迴流影響移動軌跡較為複雜,在氣櫃內部不規則運動而累積,在VAV氣櫃模擬中也沒有發現逸散情形,只有在AC氣櫃且危害源在氣櫃左側模擬時有發現逸散情形。計畫所評估之VAV及AC氣櫃都可有效控制奈米微粒逸散,可供事業單位控制奈米微粒逸散參考。


     





    摘 要 ............................................................................ i

    Abstract .......................................................................... ii

    目次 ........................................................................................ iv

    圖目次 ...................................................................................... v

    表目次 ..................................................................................... xiii

    第一章計畫概述...................................................................... 1

    第一節前言 ................................................................ 1

    第二節計畫目的及架構................................................. 23

    第二章研究方法................................................................. 25

    第一節文獻資料整理.......................................................... 25

    第二節實場測試........................................................... 28

    第三節氣櫃的逸散狀況的數值模擬.................................... 41

    第四節工作場所的奈米微粒逸散控制.................................... 44

    第三章結果與討論............................................................. 48

    第一節奈米微粒逸散控制防護與管理文獻.............................. 48

    第二節氣櫃的逸散狀況的實場測試............................. 52

    第三節氣櫃有害物逸散控制的數值模擬....................... 95

    第四節工作場所奈米微粒逸散控制....................................... 112

    第四章結論與建議........................................................... 117

    第一節結論 ................................................................... 117

    第二節建議 ........................................................................... 117

    後記 ......................................................................... 119

    參考文獻 ................................................................................. 120

    附錄一、實驗儀器的校正 ...................................................... 132

    附錄二、感測器校正 ..................................... 139

    附錄三、文獻詳細說明 ............................................. 145




    其 他 著 作
    1. 奈米作業場所逸散評估與危害預防探討ILOSH112-H701